2020/06/25

分散技術

弊社では3本ロールを使用しております。3本ロールでは7.0から1.5ミクロンへの分散が可能で均一分散が可能です。半導体原料のシリコンや炭化ケイ素の均一分散も行えます。 　　　　　　

ナノ分散


その他に、ナノ分散機があり1～0.5ミクロンの粒子を10～100ナノメートルへの１次粒子へ近づける事が可能です。2つの分散機を使用し粒子を、1次粒子に近づけ、再凝集し辛い形へ加工することが可能になります。
研究や開発分野で試験的に分散が必要な場合はお問い合わせください。